纳米铈基复合抛光液 产品特征： SHNF系列纳米铈基复合抛光液是在纳米氧化铈的基础上复合纳米硅、铝、锆等材料，既能够保证达到或超过二氧化硅所达到的细的表面光洁度，也保证能够达到氧化铈抛光剂达到的抛光速度，形成一种独特的抛光效果，抛光液质量稳定，粒度可控，颗粒度分布集中，并具有以下特点： 1、 软硬度适中、不划伤被抛物面。 2、 悬浮性好，不易沉淀，使用方便。 3、 分散性好、乳液均一，极大提高了抛光效率和精度。 适用领域： 1、适用于DSTI-CMP、集成电路光掩模、高精密光学仪器、光学镜头、液晶显示屏、多芯光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面等方面的精密抛光。 2、半导体材料、玻璃材料的抛光，尤其是需要抛光到极细的表面光洁度要求的， 技术指标： 型号 粒度(D：50，μm) 浓度（wt％） PH 适 用 SHNF-08 0.05-0.09 20-40 7-9 DSTI-CMP SHNF-2 0.1-0.2 20-40 7-9 DSTI-CMP SHNF-4 0.3-0.4 20-40 7-9 高精密光学仪器等 SHNF-6 0.5-0.6 20-40 7-9 高精密光学仪器等 SHNF-8 0.7-0.8 20-40 7-9 高精密光学仪器等 SHNF-10 0.9-1.0 20-40 7-9 高精密光学仪器等 备注：以上也可根据用户需要不同浓度和不同粒度而调整。 注意事项： 1． 以防少许沉淀，建议使用前先摇匀。 2． 使用时，以不同浓度并据不同行业的需要可用过滤清洁水加以稀释，调制不同浓度。 储 存：本品需在0℃以上储存，防止结块，在0℃以下因产生不可再分散结块而失效。 包 装：1 L/瓶、5 L/瓶、20 L/瓶，或据客户要求。